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电子束蒸发
电子束蒸发（Electron Beam Evaporation）是物理气相沉积的一种形式，其中待蒸发材料被来自带电钨丝的电子束轰击，当电子束撞击目标材料时，它的能量转化为热能，使目标材料达到蒸发的状态，并将其转化为气态，在高真空室中，这些蒸发的原子或分子随后沉积在基板上形成薄膜。
【知识】镁、锌、铝、钛四大合金特性对比
常用的合金材料有铝合金、锌合金和镁合金。钛合金由于其生物相融性好，常用在医疗领域。本篇文章就来扒一扒这几种合金材料的特性，做个对比
光电探测器的应用
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光电探测器的特点
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十种真空镀膜技术（二）
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十种真空镀膜技术（一）
十种真空镀膜技术（一）
这几个参数在磁控溅射镀膜工艺中会影响镀膜质量
磁控溅射真空镀膜设备镀膜工艺主要受哪几个参数影响呢？磁控镀膜机里面的工艺参数有很多很多，每个参数对磁控镀膜系统来说都是非常重要的因素，因为一个参数未达标，都没办法完成所需要达到的要求，今天给大家介绍磁控溅射真空镀膜设备几个常见比较重要参数
蒸发镀膜和溅射镀膜的优缺点
真空镀膜技术简称PVD，在真空条件下，采用物理方法，使材料源表面气化成原子、分子或离子，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。真空镀膜设备镀膜技术主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。而蒸发镀膜技术也分为三种，电阻蒸发，电子束蒸发，感应加热蒸发。
5种溅射镀膜方法（制备优质薄膜）
一、不平衡磁控溅射不平衡磁控溅射，是指阴极内外磁极部分的磁通量不等。不平衡磁场的作用是捕获从目标表面逸出的快速移动的二次电子。这些电子与远离靶材表面的中性气体原子发生电离碰撞，并在衬底区域产生更多的离子和更多的电子，从而大大增加了衬底离子轰击。由于不平衡磁控溅射的发展，薄膜的质量大大提高。
陶瓷材料的分类
采用天然原料如长石、粘土和石英等烧结而成，是典型的硅酸盐材料，主要组成元素是硅、铝、氧，这三种元素占地壳元素总量的90%，普通陶瓷来源丰富、成本低、工艺成熟。这类陶瓷按性能特征和用途又可分为日用陶瓷、建筑陶瓷、电绝缘陶瓷、化工陶瓷等。

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