中诺新材在线商城

中诺产品
技术资料

登录

我的购物车 (0)

购物车还没有商品，赶紧选购吧

首页 > 技术服务

技术服务分类

真空技术名词术语
36.体积流率:在给定温度、压力和给定时间间隔的条件下通过某截面的气体体积,除以该时间. 40.分子流导:气体通过管的两规定截面或孔流动的分子流导为:其分子流率与管的两截面或孔的两侧的平均分子数密度差之比...
影响镀膜质量因素
烘烤和镀膜过程中公转未开,或不转,未及时发现移动热电偶,导致温度不够或过高21、镀膜过程移动电子枪光斑,或光斑位置不正,导致溅点22、镀膜过程中电子枪中O2未开,未及时发现23镀膜过程误按IC5的F3,未及…
偏压介绍
直流偏压电弧离子镀工艺中,为了抑制正离子对基体表面连续轰击而导致的基体温度过高,主要采取减少沉积功率、缩短沉积时间、采用间歇沉积方式等措施来降低沉积温度，这些措施可以概括地称为能量控制法"这种方法虽然可以降低…
金属材料学与热处理名词解释汇总
将工件加热至Ac3(Ac是指加热时自由铁素体全部转变为奥氏体的终了温度，一般是从727℃到912℃之间)或Acm(Acm是实际加热中过共析钢完全奥氏体化的临界温度线)以上30~50℃，保温一段时间后，从炉中取…
光学镀膜技术
光学薄膜在我们的生活中无处不在,从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用;比方说,平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品,或者是钞票上的防伪技术,皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。
电弧离子镀技术中脉冲偏压
近年来在电弧离子镀中脉冲负偏压越来越得到人们的重视,脉冲偏压电源的使用使电弧离子镀技术得到了更快的发展.
磁控溅射的种类
磁控溅射包括很多种类.各有不同工作原理和应用对象.
通过低溅射电压制备ITO薄膜的工艺和方法
利用HDAP法能获得电阻率较低的ITO薄膜,尤其是在基片温度不能太高的材料上制备ITO薄膜时,使用HDAP法制备ITO薄膜可以得到较理想的ITO薄膜
影响ITO薄膜导电性能的几个因素
制备ITO薄膜时要得到不同的膜层厚度比较容易,而ITO薄膜的电阻率(ρ)的大小则是ITO薄膜制备工艺的关键。
表面覆膜技术
表面覆膜技术包括热喷涂、真空镀、电镀。

< 上一页 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 下一页 >

购物指南: 购物流程; 配送方式; 付款方式; 发票问题

服务售后: 服务协议; 隐私政策; 售后政策; 返修/退换货

关于我们: 了解中诺; 企业文化; 加入中诺; 联系我们

服务热线

400-169-8600

地址：北京市海淀区上地东路25号3层

电话：010-52860970

邮箱：info@znxc.cn

关注我们

京ICP备19057082号 © 2016-2019 中诺新材版权所有

联系客服

400-169-8600

销售咨询

销售咨询

售后服务

技术服务

info@znxc.cn