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常用的光学镀膜材料，你知道多少？
氧化物类:三氧化二钇、二氧化铈、氧化镁、二氧化钛、二氧化硅、一氧化硅、二氧化锆、三氧化二铝、氧化铪等. 使用高密度的钨舟皿蒸发,在200°C的基板上蒸着二氧化铈,得到--个约为2.2的折射率,在大约3000n…
合金熔炼常见问题汇总
1、常用的熔炼方法及加热原理: 冲天炉熔炼:利用焦炭燃烧产生热量使合金融化. 电弧炉熔炼:利用电弧产生的热量来熔炼合金. 感应炉熔炼:利用交流电感应作用是金属本身产生热量来熔化金属的一种熔炼方法固溶强化:指形成固溶体使合金强化的方法时效强化:通过热处理利用合金的相变产生第二相微粒,这样的强化加时强化变质处理:是在熔融的合金中加入少量的一种或几种元素(或加化和物起作用而得),改变合金的结晶组织,从而改善机械性能
新一代半导体材料——氧化镓的优点和应用
氮化镓(GaN)是一种高性能化合物半导体.是一种III-V直接带隙化合物半导体,市场上第一代半导体是硅,主要解决数据运算、存储的问题;第二代半导体是以砷化镓为代表,它被应用到于光纤通讯,主要解决数据传输的问题…
PVD镀膜知识问答(二)
答:PVD相比CVD要薄,CVD的涂层厚度是10~20μm,而PVD的涂层厚度只有3~5μm左右.PVD的处理温度大概在500℃左右,而CVD的炉内温度在800~1000℃.由此可见,正因为温度很高,所以CV…
PVD镀膜知识问答
答:PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是,两者都属于表面处理的范畴,都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面. 答:采用PVD镀膜技术镀出的膜层,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和…
影响真空镀膜性能的因素有哪些
蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响蒸发速率的大小对沉积膜层的影响比较大.由于低的沉积速率形成的涂层结构松散易产大颗粒沉积,为保证涂层结构的致密性,选择较高的蒸发速率是十分安全的.当真空室内残余气体的压力一定时,则轰…
一文了解氮化铝陶瓷
氮化铝(AlN)是一种综合性能优良的新型陶瓷材料,具有优良的热传导性,可靠的申绝缘性,低的介电常数和介电损耗.无毒以及与硅相匹配的热膨胀系教等一系列优良特性.被认为是新-代高集程度半导体基片和电子器件封装的理…
一文了解高熵合金
高熵合金的非晶形成能力较强,某些高熵合金能在铸态组织中形成非晶相.而传统合金要获得非晶组织,需要极大的冷却速度将液态原子无规则分布的组织保留到室温.非晶态金属的研究是近年来才兴起的,由于结构中无位错,具有很…
半导体制造产业链的三大类材料
根据芯片材质不同,分为硅晶圆片(第一代半导体)和化合物半导体,其中硅晶圆片的使用范围最广,是集成电路IC制造过程中最为重要的原材料.硅晶圆片全部采用单晶硅片,应用于电力电子上的硅材料纯度要求更高,通常要求纯度…
新型导热材料石墨烯的介绍及应用
电子信息领域是石墨烯最重要的应用领域.该领域的产业化决定着石墨烯的真正价值和无可替代性.目前研究热点在石墨烯传感器、石墨烯柔性电子器件、石墨烯逻辑电路等. 石墨烯具有优良的导电性和极大的比表面积,在储能领域一…

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