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名  称:铬
符  号:Cr
原子量:51.9961
熔  点:1907℃
沸  点:2671℃
密  度:7.19g/cm3

    高纯铬靶经磁控溅射为基体镀膜具有耐磨、抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强、导热导电性能优越等特点,可广泛用于半导体、芯片、精密电子产品、显示屏以及高端光学材料镀膜。
    我公司可提供脱氧脱气高纯铬粉,并且经过热等静压及机械加工成块状、片状、棒状等各种铬靶,具有纯度高、密度高、组织结构优良、使用寿命长四大特点。
名称符号纯度状态规格
高纯铬Cr2N5 3N5靶材根据要求定制 
3N5 4N粉末-200目
3N5 4N片状不规则片状
3N5颗粒3-5mm
    我公司可提供铬合金如铝铬合金,钴铬钨合金等。还可以提供氧化铬粉末,蒸发膜料及靶材
合金及化合物
铬铝合金AlCr3N靶材 颗粒根据要求定制 
铝铬钇合金AlCrY3N靶材根据要求定制 
钴铬钨合金CoCrW3N靶材根据要求定制 
氧化铬Cr2O34N靶材 颗粒 粉末根据要求定制 

其他规格铬基合金及化合物可定制生产。欢迎来电咨询!

 

 

 

 

 

 

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